Nhà máy thực phẩmThiết bị xử lý khí thải- Thiết bị composite quang học

Từ khóa: Thiết bị xử lý khí thải nhà máy thực phẩm, quang ly hợp,

Các nhà máy chế biến thực phẩm chủ yếu có 3 loại ô nhiễm: nước thải, khí thải và ô nhiễm chất thải cố định. Ba hình thức ô nhiễm này đều cần được xử lý, sau khi đạt tiêu chuẩn mới có thể thải ra. Trong số các thành phần gây ô nhiễm của khí thải chủ yếu là benzen, toluene, styrene và như vậy, quá trình làm sạch và xử lý so với nước thải, chất thải rắn dễ xử lý hơn, và công nghệ tương đối trưởng thành hơn. Quá trình làm sạch mặt trời trong việc xử lý khí thải của nhà máy thực phẩm thường sử dụng phương pháp rửa phun, quang giải uv, khử mùi plasma và các phương pháp khác. Những cách này có công nghệ trưởng thành, an toàn và đáng tin cậy, hoạt động ổn định trong khi chi phí bảo trì nhỏ, hiệu quả làm sạch cao và đảm bảo phát thải đạt tiêu chuẩn.

Tháp phun: Phương pháp rửa tháp phun là một phương pháp xử lý khí thải tương đối phổ biến trong ngành. Thiết bị thể hiện hình dạng của tháp nhiều lớp. Bên trong bao gồm bể chứa nước tuần hoàn, chất độn, hệ thống phun, máy khử sương, v.v., thường được sử dụng để xử lý khí thải hữu cơ hòa tan trong nước. Khí thải đi từ dưới lên sau khi đi vào thiết bị thông qua cửa hút khí, vào khu vực đóng gói, khu vực phun theo từng lớp, tràn hoặc loại trừ sau khi xử lý nước. Tháp phun có giá rẻ, hiệu suất ổn định và ngoại hình đẹp. Thanh lọc quá mức bằng vật liệu FRP, chống ăn mòn và chống lão hóa mạnh mẽ. Nó được sử dụng rộng rãi trong năng lượng mặt trời, hóa chất, máy móc, dụng cụ điện tử và các lĩnh vực khác.

UV quang phân: UV quang phân xử lý khí thải nguyên tắc là sử dụng tia UV tia cực tím để phân hủy các phân tử oxy trong không khí để sản xuất oxy phản ứng (tức là oxy tự do), đồng thời cũng có thể tạo ra tác dụng oxy hóa quang phân hiệp đồng trên khí thải, làm suy giảm khí có mùi, chuyển đổi thành các hợp chất phân tử thấp (CO, HO), phương pháp xử lý tương đối sạch sẽ và mềm mại.

Sử dụng quang phân UV để xử lý khí thải, hiệu quả làm sạch cao, đồng thời khả năng thích ứng mạnh mẽ, có thể đạt được xử lý khử mùi và khử mùi trong các loại khí có nồng độ khác nhau và mùi hôi khác nhau. Thiết bị UV hoạt động ổn định, chi phí thấp hơn, tiêu thụ năng lượng nhỏ, giảm thời gian chăm sóc nhân tạo, có thể nói là tiết kiệm công sức và lo lắng, là một vũ khí sắc bén để xử lý khí thải hữu cơ.

Phương pháp plasma: Plasma nhiệt độ thấp là trạng thái thứ tư của vật chất sau trạng thái rắn, lỏng, khí, khi điện áp bổ sung đạt đến điện áp xả của khí, khí bị phá vỡ, tạo ra hỗn hợp bao gồm electron, các ion khác nhau, nguyên tử và gốc tự do. Trong quá trình phóng điện, mặc dù nhiệt độ electron rất cao, nhưng nhiệt độ hạt nặng rất thấp, toàn bộ hệ thống xuất hiện trạng thái nhiệt độ thấp, vì vậy nó được gọi là plasma nhiệt độ thấp. Các chất gây ô nhiễm phân hủy plasma nhiệt độ thấp là việc sử dụng các electron năng lượng cao, các hạt hoạt tính như gốc tự do và các tác động gây ô nhiễm trong khí thải để phân hủy các phân tử ô nhiễm trong một thời gian rất ngắn và các phản ứng khác nhau xảy ra sau đó để đạt được mục đích phân hủy các chất ô nhiễm.